 |
| ・会員価格 ¥2,112 |
| ・一般価格 ¥2,640 |
|
|
| こちらはBookPark「電気学会 電子図書館（IEEJ Electronic Library）」による文献紹介ページです。 |
|
 |
 |
電気学会会員の方はこちらから一旦ログインのうえ、マイページからお入りください。
会員価格で購入することができます。
|
|
| 非会員の方はログインの必要はありません。このまま お進みください。 |
|
|
| ■論文No. |
1117 |
| ■ページ数 |
50ページ |
■発行日
|
2008/06/10 |
| ■タイトル |
リソグラフィ先端技術の動向 |
| ■タイトル(英語) |
Status of Advanced Lithography Technology |
| ■著者名 |
リソグラフィ先端技術調査専門委員会編 |
| ■著者名(英語) |
Advanced Lithography Technology Committee |
| ■価格 |
会員 ¥2,112 一般 ¥2,640 |
| ■書籍種類 |
技術報告 |
| ■グループ名 |
【A】基礎・材料・共通部門 |
| ■本誌掲載ページ |
ページ |
| ■キーワード |
液浸リソグラフィ,EUVリソグラフィ,電子ビームリソグラフィ,ナノインプリント／Immersion Lithography, EUV Lithography, EB Lithography, Nano-imprint |
| ■要約(日本語) |
半導体集積回路の量産用リソグラフィ技術における微細化は、ハーフピッチ(hp)45nm用として液浸ArFエキシマレーザーリソグラフィ技術が実用化されており、hp32nmが次の目標になっている。次世代リソグラフィの有力候補としては、ダブルパターニング技術、EUV(Extreme Ultra Violet)リソグラフィ技術、ナノインプリント技術などが開発されている。本調査専門委員会では、これらの技術を中心に研究開発動向を調査し、次世代リソグラフィ技術の見通しを明らかにすることを目的とする。 |
| ■要約(英語) |
Advanced lithography technology for half pitch (hp) 45nm semiconductor device manufacturing has introduced ArF immersion tools in mass production, and has focused on hp 32nm lithography technology development as a next target. The next generation lithogra |
| ■版 型 |
A4 |
|
|
|
