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| ■論文No. |
1232 |
| ■ページ数 |
36ページ |
■発行日
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2011/09/05 |
| ■タイトル |
リソグラフィ極限技術の開発動向 |
| ■タイトル(英語) |
Development Status of Extreme Lithography Technologies |
| ■著者名 |
リソグラフィ極限技術調査専門委員会 |
| ■著者名(英語) |
Investigating R&D Committee of Extreme Lithography Technologies |
| ■価格 |
会員 ¥1,848 一般 ¥2,310 |
| ■書籍種類 |
技術報告 |
| ■グループ名 |
【A】基礎・材料・共通部門 |
| ■本誌掲載ページ |
ページ |
| ■キーワード |
リソグラフィ、マスク、レジスト、ナノインプリント、シリコン貫通電極／Lithography、Mask、Resist、Nanoimprint、Trough Silicon Via |
| ■要約(日本語) |
半導体集積回路の微細化は情報化社会の飛躍的発展の基盤を支えて来た。その微細化の原動力は微細なパターンを最初に形成するリソグラフィ技術の進歩である。本技術委員会では、リソグラフィ技術の重要性に鑑み、平成20年4月〜平成23年3月の間にリソグラフィ極限技術調査専門委員会を設置し、技術動向と研究開発課題に関する調査、検討を行った。 |
| ■要約(英語) |
Nanofabrication technologies in LSI devices manufacturing have been leading outstanding infrastructure
development in information technology world. A major driving force in nanofabrication technologies is great
advances in lithography technologies, which |
| ■版 型 |
A4 |
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