■論文No. |
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■ページ数 |
6ページ |
■発行日
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2017/03/01 |
■タイトル |
放射光光電子分光で観た酸素分子によるNi(001)表面酸化膜形成の反応機構 |
■タイトル(英語) |
Chemical Reaction Mechanisms of Oxide Layer Formation via Oxygen Molecule at Ni(001) Surface as Observed by Synchrotron Photoemission Spectroscopy |
■著者名 |
寺岡 有殿(国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構),岩井 優太郎(兵庫県立大学) |
■著者名(英語) |
Yuden Teraoka (National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology), Yutaro Iwai (University of Hyogo) |
■価格 |
会員 ¥550 一般 ¥770 |
■書籍種類 |
論文誌(論文単位) |
■グループ名 |
【C】電子・情報・システム部門 |
■本誌 |
電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌) Vol.137 No.3 (2017) 特集:量子ビームによるナノバイオサイエンス技術
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■本誌掲載ページ |
394-399ページ |
■原稿種別 |
論文/日本語 |
■電子版へのリンク |
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/137/3/137_394/_article/-char/ja/
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■キーワード |
放射光,光電子分光,超音速分子線,Ni(001),酸化 synchrotron radiation,photoemission spectroscopy,supersonic molecular beam,Ni(001),oxidation |
■要約(日本語) |
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■要約(英語) |
Chemical reaction dynamics on the oxide formation at the Ni(001) surface has been studied via two quantum beams (synchrotron radiation and supersonic molecular beam). It was revealed that NiO layers formation took place at an oxygen coverage less than 0.5 ML depending on translational energy of oxygen molecules. Although dissociative adsorption of oxygen takes place via physical adsorption at lower translational energy than 0.06 eV, direct activated adsorption occurs at higher energy. Potential energy barrier height is 0.3 eV for the first barrier and 1.6 eV for the second one, respectively. |
■版 型 |
A4 |