| *商品について |
|
表紙はついていません（本文のみ中綴じ製本です）。
号単位でも購入できます。
すべてモノクロ印刷です。
Extended Summaryはついていません。
|
 |
| ・会員価格 ¥550 |
| ・一般価格 ¥770 |
|
|
| こちらはBookPark「電気学会 電子図書館（IEEJ Electronic Library）」による文献紹介ページです。 |
|
 |
 |
電気学会会員の方はこちらから一旦ログインのうえ、マイページからお入りください。
会員価格で購入することができます。
|
|
| 非会員の方はログインの必要はありません。このまま お進みください。 |
|
|
| ■論文No. |
|
| ■ページ数 |
8ページ |
■発行日
|
2017/10/01 |
| ■タイトル |
高速多点計測を実現する測長SEM撮像シーケンス最適化 |
| ■タイトル(英語) |
Optimization of CD-SEM Imaging Sequence to Achieve High-speed and Multi-point Measurement |
| ■著者名 |
宮本 敦（（株）日立製作所 研究開発グループ），川原 敏一（（株）日立ハイテクノロジーズ） |
| ■著者名(英語) |
Atsushi Miyamoto (Research & Development Group, Hitachi, Ltd.), Toshikazu Kawahara (Hitachi High-Technologies Corporation) |
| ■価格 |
会員 ¥550 一般 ¥770 |
| ■書籍種類 |
論文誌(論文単位) |
| ■グループ名 |
【C】電子・情報・システム部門 |
| ■本誌 |
電気学会論文誌C（電子・情報・システム部門誌） Vol.137 No.10 （2017）
|
| ■本誌掲載ページ |
1379-1386ページ |
| ■原稿種別 |
論文／日本語 |
| ■電子版へのリンク |
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/137/10/137_1379/_article/-char/ja/
|
| ■キーワード |
測長SEM，撮像シーケンス，設計データ，MLA法，高スループット CD-SEM，imaging sequence，design data，multifactor layout analysis method，high throughput |
| ■要約(日本語) |
|
| ■要約(英語) |
Critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) is widely used as an essential tool for measuring semiconductor patterns. It is necessary to set imaging sequence including corrections of imaging position and focusing of electron beam in evaluation point (EP) for the reliable measurement. Previously, addressing point (AP) and autofocus point (AF) suitable for these processing are selected by the hand and this is a drop factor of SEM operation rates. In our previous work, we developed a multifactor layout analysis (MLA) method, which automatically generate imaging sequence for each EP from design data of the pattern layout. In this paper, we propose an enhanced MLA method, which optimizes the imaging sequence to share AP and AF between multiple EPs. For 203 EPs, the imaging time of the proposed method is twice as fast as that of conventional MLA method. Without the hard improvement of the SEM apparatus, the proposed method can realize significant throughput improvement for numerous EPs |
| ■版 型 |
A4 |
|
|
|
