1.リソグラフィ将来技術の動向 |
Research on Next Generation Lithography Technologies |
論文No: 1418 ページ数: 57 日付: 2018/04/05
著者: リソグラフィ将来技術調査専門委員会
キーワード : ArF液浸、EUV、マスク、ナノインプリント、DSA/Investigating R&D Committee on Next Generation Lithography Technologies |
LSI (Large Scale Integration) デバイスの微細化は情報化社会の飛躍的発展の基礎を支えて来た。その微細化の原動力はリソグラフィ技術の進歩である。ITRS (International Techn ... more |
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