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| ■論文No. |
EFM21010 |
| ■ページ数 |
4ページ |
■発行日
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2021/11/15 |
| ■タイトル |
CaF2とコスパッタ成膜したIn2O3透明導電薄膜の 光学的および電気的特性評価 |
| ■タイトル(英語) |
Electrical and Optical Characterization of In2O3 Transparent Conductive Film Co-sputtered with CaF2 |
| ■著者名 |
大榮 海斗(工学院大学),森 峻(工学院大学),渡辺 幸太郎(工学院大学),相川 慎也(工学院大学) |
| ■著者名(英語) |
Kaito Oe(Kogakuin University),Shun Mori(Kogakuin University),Kotaro Watanabe(Kogakuin University),Shinya Aikawa(Kogakuin University) |
| ■価格 |
会員 ¥440 一般 ¥660 |
| ■書籍種類 |
研究会(論文単位) |
| ■グループ名 |
【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会 |
| ■本誌 |
2021年11月18日-2021年11月19日電子材料研究会-1
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| ■本誌掲載ページ |
33-36ページ |
| ■原稿種別 |
日本語 |
| ■電子版へのリンク |
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| ■キーワード |
透明導電膜|酸化インジウム|フッ化カルシウム|Transparent conductive film|In2O3|CaF2 |
| ■要約(日本語) |
電子機器の高品位化に伴って，高透過率かつ低抵抗の透明導電膜が求められている．本研究では， In2O3へのドーパントとして透明性が高く，安全なCaF2に着目した．最適条件で作製した膜は、抵抗率4×10−4Ωcm，可視光での平均透過率81.4%を得た．その原因は，Ca-O結合によるIn-Oへの酸素空孔形成が促進された結果，抵抗率が減少したと考えられる．XPSにより膜内での結合状態の詳細を議論する． |
| ■要約(英語) |
Transparent conductive films with high transmittance and low resistivity are demanded for electronic devices. In this study, we focused on CaF2 as a dopant for In2O3 and investigated the role of Ca and F in the film. The resistivity and average transmittance in the visible region of 3.1 × 10-4 Ωcm and 83.1 % were obtained, respectively. XPS analysis revealed that the density of oxygen vacancy increased by incorporation of Ca species based on the stronger bond-dissociation energy than In-O, thus, electron concentration was increased. On the other hand, F species did not work as dopant in our doping system because of strong binding energy of Ca-F. |
| ■版 型 |
A4 |
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