| ■論文No. |
EPP22045 |
| ■ページ数 |
5ページ |
■発行日
|
2022/05/15 |
| ■タイトル |
Comparison between fluid model and particle model in the low-temperature plasma simulation |
| ■タイトル(英語) |
Comparison between fluid model and particle model in the low-temperature plasma simulation |
| ■著者名 |
李 思霖(東京工業大学),赤塚 洋(東京工業大学) |
| ■著者名(英語) |
SILIN LI(Tokyo Institute of Technology),Hiroshi Akatsuka(Tokyo Institute of Technology) |
| ■価格 |
会員 ¥220 一般 ¥330 |
| ■書籍種類 |
研究会(論文単位) |
| ■グループ名 |
【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会 |
| ■本誌 |
2022年5月18日-2022年5月20日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-2
|
| ■本誌掲載ページ |
1-5ページ |
| ■原稿種別 |
英語 |
| ■電子版へのリンク |
|
| ■キーワード |
低温プラズマ|プラズマシミュレーション|流体力学法|パーティクルインセル法|ＣＣＰプラズマ|非平衡|Low temperature plasma |plasma simulation|fluid dynamic method|particle-in-cell method|CCP plasma|non-equilibrium |
| ■要約(日本語) |
CCPシステムをより正確に予測および制御するために、この研究では2つの異なる数値シミュレーション法（流体力学法とPIC法）を使用します。荷電粒子が非熱的動的平衡状態にある場合、従来の流体法では結果に誤差が生じます。 PIC法は、マクロ粒子を直接追跡できるため、電子とイオンの密度曲線をより適切に表示できます。 PIC法の欠点は、計算時間のコストが高すぎることです。 |
| ■要約(英語) |
Low temperature plasma technology plays an important role in the semiconductor manufacturing processes. To predict and control the CCP system more accurately, this study uses two different numerical simulation methods, that is fluid dynamic method and particle-in-cell PIC method. When the charged particles are in the state of non-thermal dynamic equilibrium, the traditional fluid method will bring errors to the results. The PIC method can better display the density curves of electrons and ions because it can directly track the macroparticles. The disadvantage for the PIC method is that computational time cost is too high to get the precise data. |
| ■版 型 |
A4 |
| ■PDFファイルサイズ |
1,236Kバイト |
