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■論文No. EDD23020
■ページ数 6ページ
■発行日
2023/03/24
■タイトル

InP系MOS-HEMTによるサブテラヘルツ帯パワーアンプ

■タイトル(英語)

Sub-Terahertz Power Amplifiers Using InP-Based MOS-HEMTs

■著者名 熊崎 祐介(富士通),尾崎 史朗(富士通),岡本 直哉(富士通),原 直紀(富士通),中舍 安宏(富士通),佐藤 優(富士通),多木 俊裕(富士通)
■著者名(英語) Kumazaki Yusuke(Fujitsu),Shiro Ozaki(Fujitsu),Naoya Okamoto(Fujitsu),Naoki Hara(Fujitsu),Yasuhiro Nakasha(Fujitsu),Masaru Sato(Fujitsu),Toshihiro Ohki(Fujitsu)
■価格 会員 ¥220 一般 ¥330
■書籍種類 研究会(論文単位)
■グループ名 【C】電子・情報・システム部門 電子デバイス研究会
■本誌 2023年3月27日電子デバイス研究会
■本誌掲載ページ 7-12ページ
■原稿種別 日本語
■電子版へのリンク
■キーワード 増幅器|高電子移動度トランジスタ|テラヘルツ|300GHz帯|6G|power amplifier|HEMT|terahertz|300-GHz-band|6G
■要約(日本語) 本研究では高効率なサブテラヘルツ帯パワーアンプをInP系MOS-HEMTで実現した。Al2O3ゲート絶縁膜の適用とドレイン側アクセス領域の最適化により、トランジスタのDCおよびRF特性を改善した。広帯域で共役整合する段間回路を付与することでユニットPAあたりのS21を最大化し、サブテラヘルツ帯PA-MMICとして非常に優れたPAEと、6Gで活用が期待される周波数をカバーする広帯域特性を実現した。
■要約(英語) This work shows a high-efficiency power amplifier (PA) monolithic microwave integrated circuit (MMIC) that uses InP-based metal?oxide?semiconductor (MOS) high-electron-mobility transistors (HEMTs). Al2O3 gate electric with H2O vapor treatment was adopted to reduce gate leakage current and increase drain current. The length of the drain-side access region was optimized to simultaneously obtain high power and efficiency. A common-source PA MMIC based on InP-based MOS-HEMTs was fabricated, and an interstage circuit was designed to maximize the S21 per unit stage in the broadband, resulting in a record-high power-added efficiency and wide bandwidth.
■版 型 A4
■PDFファイルサイズ 1,263Kバイト
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