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| ■論文No. |
MAG23111 |
| ■ページ数 |
6ページ |
■発行日
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2023/11/07 |
| ■タイトル |
対向ターゲット式スパッタ法で成膜したCoFeB-SiO2 を磁性コアとした平面スパイラルインダクタの作製プロセスの改善 |
| ■タイトル(英語) |
Improvement of fabrication process of planar type spiral inductors using a CoFeB-SiO2 magnetic core formed by facing targets sputtering |
| ■著者名 |
仁田 帆南(東京工業大学),山中 希未斗(東京工業大学),宮﨑 達也(ローム),石戸 亮祐(ローム),藤﨑 敬介(豊田工業大学),中川 茂樹(東京工業大学),髙村 陽太(東京工業大学) |
| ■著者名(英語) |
Honami Nitta(Tokyo Institute of Technology),Kimito Yamanaka(Tokyo Institute of Technology),Tatsuya Miyazaki(ROHM),Ryosuke Ishido(ROHM),Kesuke Fujisaki(Toyota Technological Institute),Shigeki Nakagawa(Tokyo Institute of Technology),Yota Takamura(Tokyo Institute of Technology) |
| ■価格 |
会員 ¥220 一般 ¥330 |
| ■書籍種類 |
研究会(論文単位) |
| ■グループ名 |
【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会 |
| ■本誌 |
2023年11月10日マグネティックス研究会
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| ■本誌掲載ページ |
25-30ページ |
| ■原稿種別 |
日本語 |
| ■電子版へのリンク |
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| ■キーワード |
対向ターゲット式スパッタ法|軟磁性薄膜|平面スパイラルインダクタ|半導体製造プロセス|Facing targets sputtering|Soft magnetic thin films|planar type spiral inductors|Semiconductor manufacturing process |
| ■要約(日本語) |
高周波パワーエレクトロニクス回路に用いる薄膜インダクタの低鉄損な磁性膜コアとして、対向ターゲット式スパッタ法(FTS)を用いて作製したCoFeB-SiO2グラニュラー薄膜が期待される。本研究では、この薄膜を磁性コアとする平面スパイラルインダクタを半導体プロセスで作製し、そのインダクタンス値のばらつきを評価した．ばらつき低減のために作製プロセスについても報告する。 |
| ■要約(英語) |
CoFeB-SiO2 granular thin films fabricated with facing targets sputtering are expected as low iron-loss magnetic cores for thin-film inductors for high frequency power electronics circuits. In this study, planar type spiral inductors using this film as the magnetic core were fabricated and the variation of the inductance value was evaluated. |
| ■版 型 |
A4 |
| ■PDFファイルサイズ |
1,485Kバイト |
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