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■論文No. EFM23025
■ページ数 2ページ
■発行日
2023/11/19
■タイトル

硫黄蒸気輸送アニールを用いた金属Sn薄膜の硫化とその評価

■タイトル(英語)

Sulfurization of metal Sn thin-films through vapor transport annealing and their characterization

■著者名 渡邉 大輝(工学院大学),守屋 賢人(工学院大学),相川 慎也(工学院大学)
■著者名(英語) Daiki Watanabe(Kogakuin University),Kento Moriya(Kogakuin University),Shinya Aikawa(Kogakuin University)
■価格 会員 ¥440 一般 ¥660
■書籍種類 研究会(論文単位)
■グループ名 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会
■本誌 2023年11月22日-2023年11月23日電子材料研究会
■本誌掲載ページ 89-90ページ
■原稿種別 日本語
■電子版へのリンク
■キーワード SnS|硫化|硫黄蒸気輸送法|薄膜|p型半導体|SnS|Sulfurization|Sulfur vapor transport annealing method|Thin-film|p-type semiconductor
■要約(日本語) SnS は,高性能な p 型半導体材料として注目されている.しかしながら,これまでに報告されてきた溶液合成や真空蒸着による方法では,電気特性を低下させる中間不純物が高濃度で混入することが問題となっている.我々は中間不純物の低減が期待できる硫黄蒸気輸送法を用いてSnSを作製した.硫化温度を検討することで,中間不純物を含まないSnSを作製することができた.
■要約(英語) SnS has been attracted attention as a high-performance p-type semiconductor material. However, high-quality SnS has not been fabricated thus far. In this study, we fabricated SnS without intermediate impurities using sulfur vapor transport annealing method. We will discuss the correlation between sulfurization temperature and quality of the fabricated SnS.
■版 型 A4
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