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■論文No. OQD23051
■ページ数 4ページ
■発行日
2023/12/24
■タイトル

GCIBエッチングを用いたSiNx膜の極薄化と液体セル電子透過窓への適用

■タイトル(英語)

Ultra-thinning of SiNx films using GCIB etching and application to electron transmission window of liquid cell

■著者名 竹内 雅耶(兵庫県立大学),豊田 紀章(兵庫県立大学)
■著者名(英語) Masaya Takeuchi(University of Hyogo),Noriaki Toyoda(University of Hyogo)
■価格 会員 ¥220 一般 ¥330
■書籍種類 研究会(論文単位)
■グループ名 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会
■本誌 2023年12月27日光・量子デバイス研究会
■本誌掲載ページ 5-8ページ
■原稿種別 日本語
■電子版へのリンク
■キーワード ガスクラスターイオンビーム|窒化シリコン|エッチング|Gas cluster ion beam|Silicon nitride|Etching
■要約(日本語) 本研究では、ガスクラスターイオンビーム(GCIB)を用いて、液体を真空中で封止しXPS・SEMなどで液体の直接観察を可能にするための溶液セルの電子透過窓(SiNxメンブレン)の極薄化を行う。GCIBの有する低損傷照射効果を利用し、極薄SiNx膜の耐圧性を保持したままエッチング行い、その照射効果の解明を行う。また、実際にその極薄膜を電子透過窓へ適用し、液体サンプルの高感度検出の実証を行う。
■要約(英語) In this study, we utilize the low-damage irradiation effect of GCIB to etch ultra-thin SiNx films while maintaining their pressure resistance, and elucidate the irradiation effect. We also apply the ultra-thin film to a electron transmission window to demonstrate high-sensitivity detection of liquid samples.
■版 型 A4
■PDFファイルサイズ 506Kバイト
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