| ■論文No. |
EPP24032 |
| ■ページ数 |
2ページ |
■発行日
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2024/06/03 |
| ■タイトル |
コロナ放電を用いた高抵抗半導体ウエハの体積抵抗率測定法の開発 |
| ■タイトル(英語) |
Non-contact volume resistivity tester for high-resistance semiconductor wafers using corona discharge. |
| ■著者名 |
加藤 詢平(山形大学),杉本 俊之(山形大学) |
| ■著者名(英語) |
Shunpei Kato(Yamagata university),Toshiyuki Sugimoto(Yamagata university) |
| ■価格 |
会員 ¥440 一般 ¥660 |
| ■書籍種類 |
研究会(論文単位) |
| ■グループ名 |
【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会 |
| ■本誌 |
2024年6月6日-2024年6月7日放電・プラズマ・パルスパワー研究会
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| ■本誌掲載ページ |
13-14ページ |
| ■原稿種別 |
日本語 |
| ■電子版へのリンク |
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| ■キーワード |
計測|半導体ウエハ|抵抗|体積抵抗率|コロナ放電|装置|measure|semiconductor wafe|resistance|volume resistivity|corona discharge|equipment |
| ■要約(日本語) |
我々は，コロナ放電を用いて高抵抗半導体ウエハの体積抵抗率を非接触での抵抗測定法について検討している。測定装置は，針対グリッド電極からなるコロナ帯電装置，除電装置および電流計で構成される。被測定物の上下に帯電装置と除電装置を配置し，被測定物を貫通する電流を測定する。測定結果から算出される抵抗値は体積抵抗率に依存する値となる。測定可能領域は108~1012Ωcmであり，市販のSiCウエハも測定可能であることを明らかにした。 |
| ■要約(英語) |
A non-contact method for measuring the volume resistivity of high-resistance semiconductor wafers using corona discharge have been investigated. The current flowing through the existing in between the corona charger and the charge eliminator is measured, and the resistivity of the object can be calculated from the measurement results. The measurable range was 108~1012Ωcm , and it was found that commercially available SiC wafers could also be measured. |
| ■版 型 |
A4 |
