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| こちらはBookPark「電気学会 電子図書館（IEEJ Electronic Library）」による文献紹介ページです。 |
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| ■論文No. |
7PM1-B-1 |
| ■ページ数 |
6ページ |
■発行日
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2013/10/29 |
| ■タイトル |
超並列電子線描画装置のためのピアース型ナノ結晶シリコン電子源アレイの作成 |
| ■タイトル(英語) |
Development of Pierce-Type Nanocrystalline Si Surface-Electron-Emitter Array for Massive Parallel Lithography |
| ■著者名 |
西野 仁 (東北大学),吉田 慎哉 (東北大学),田中 秀治 (東北大学),江刺 正喜 (東北大学),小島 明 (クレステック),池上尚克 (東京農工大学),越田 信義 (東京農工大学) |
| ■著者名(英語) |
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| ■価格 |
会員 ¥220 一般 ¥440 |
| ■書籍種類 |
部門大会 |
| ■グループ名 |
【E】平成25年電気学会センサ・マイクロマシン部門大会講演論文集 |
| ■本誌掲載ページ |
844-849ページ |
| ■キーワード |
微小電気機械システム|超並列電子線描画|ナノ結晶シリコン|ピアース型電子源| |
| ■要約(日本語) |
本研究は,超並列電子線描画装置のためのLSI集積化100x100ピアース型ナノ結晶シリコン（nc-Si）電子源アレイの作製プロセスに関するものである．具体的には,電子放出結果とEBレジストの露光実験,電子源分離のための絶縁トレンチの形成,電子源とLSIとの電気的接続のためのAu-In接合,引き出しプレートの接合に関して報告する． |
| ■要約(英語) |
This study reports on the fabrication process of a 100×100 Pierce-type nanocrystalline Si (nc-Si) electron emitter array for massive parallel electron beam lithography based on active-matrix electron beam control by LSI. We introduce the result of electron emitting and exposure test, making isoration trench for each electron emitter, Au-In bonding of electron emitter and LSI, polymer bonding of extraction plate. |
| ■版 型 |
A4 |
| ■PDFファイルサイズ |
1,170Kバイト |
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