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| ■論文No. |
XI-7 |
| ■ページ数 |
1ページ |
■発行日
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2011/09/21 |
| ■タイトル |
大気圧直流放電におけるOHラジカル分布計測 |
| ■タイトル(英語) |
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| ■著者名 |
安藤瑞基 (東京工業大学),安間良祐 (東京工業大学),竹内希 (東京工業大学),安岡康一 (東京工業大学) |
| ■著者名(英語) |
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| ■価格 |
会員 ¥220 一般 ¥440 |
| ■書籍種類 |
部門大会 |
| ■グループ名 |
【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集 |
| ■本誌掲載ページ |
272-272ページ |
| ■キーワード |
大気圧直流放電| 酸素雰囲気| OHラジカル| 水蒸気量| 二次元分布 |
| ■要約(日本語) |
大気圧酸素雰囲気で針対水面電極に直流高電圧を印加し，電流値を一定に制御して直流放電を発生させた。分光による放電のスペクトル測定と，310 nmバンドパスフィルタを装着したICCDカメラによる放電撮影によりOHラジカルの二次元分布を観察した。特に，供給する酸素を乾燥・加湿状態で変化させたときのOHラジカル分布・発光強度の違いを観察することで，放電領域中の水蒸気がOHラジカル生成に与える影響について実験的に検討した。 |
| ■要約(英語) |
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| ■版 型 |
A4 |
| ■PDFファイルサイズ |
821Kバイト |
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