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| ■論文No. |
1418 |
| ■ページ数 |
57ページ |
■発行日
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2018/04/05 |
| ■タイトル |
リソグラフィ将来技術の動向 |
| ■タイトル(英語) |
Research on Next Generation Lithography Technologies |
| ■著者名 |
リソグラフィ将来技術調査専門委員会 |
| ■著者名(英語) |
Investigating R&D Committee on Next Generation Lithography Technologies |
| ■価格 |
会員 ¥2,310 一般 ¥3,300 |
| ■書籍種類 |
技術報告 |
| ■グループ名 |
【A】基礎・材料・共通部門 |
| ■本誌掲載ページ |
ページ |
| ■キーワード |
ArF液浸、EUV、マスク、ナノインプリント、DSA／Investigating R&D Committee on Next Generation Lithography Technologies |
| ■要約(日本語) |
LSI (Large Scale Integration) デバイスの微細化は情報化社会の飛躍的発展の基礎を支えて来た。その微細化の原動力はリソグラフィ技術の進歩である。ITRS (International Technology Roadmap of Semiconductor) ロードマップ2015によれば、2022年にはハーフピッチサブ10 nmの微細加工技術が求められており、リソグラフィ技術の研究開発は一層重要性を増している。したがって、リソグラフィ将来技術の動向を探り、技術課題を明確化して、今後 |
| ■要約(英語) |
LSI (Large Scale Integration) device scaling has supported the basis of rapid growth in information society. The driving force of the LSI scaling is the progress in lithography technologies. According to ITRS (International Technology Roadmap of Semicondu |
| ■版 型 |
A4 |
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